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Vue d'ensemble
G茅nie 茅lectrique : Basic techniques in the fabrication of microelectronic circuits. Four-point probe, alloyed contacts, diffusion processes, ion implantation epitaxy, silicon dioxide, photolithography, selected diffusion and metallization, transistor fabrication, dry etching, monolithic integrated circuits, isolation, mask making, thin and thick film components, MOS gate voltage and integrated circuits.
Trimestres : Ce cours n鈥檈st pas au programme de l鈥檃nn茅e universitaire 2011-2012.
Charg茅s de cours : Aucun professeur n鈥檈st associ茅 脿 ce cours pour l鈥檃nn茅e universitaire 2011-2012.