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ECSE 485 IC Fabrication Laboratory (2 unit茅s)

important

Nota : Ceci est la version 2017鈥�2018 de l'annuaire 茅lectronique. Veuillez mettre 脿 jour l'ann茅e dans la barre d'adresse de votre navigateur pour une version plus r茅cente de cette page, ou .

Offered by: G茅nie 茅lectr. et informatique (G茅nie et l'architecture)

Vue d'ensemble

G茅nie 茅lectrique : Essential processes for silicon semiconductor device fabrication: etching, diffusion, photolithography. Fabrication of large area PN junctions, selective area PN junctions and MOSFETs. Design and fabrication of simple MOS circuits. Electrical characterization of devices and circuits.

Terms: Hiver 2018

Instructors: Shih, Ishiang; Ghamari, Pegah (Winter)

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